磁控溅射镀膜装备(PVD)
磁控溅射镀膜装备(PVD)
手艺特点 Features
· 磁控溅射沉积。。 。。。。。 。
镀膜原理 Coating Principle
· PVD具有多阶阴极 ，， ，，，可以制备种子层与多种折射率的叠层TCO。。 。。。。。 。
可兼容硅片尺寸 Compatible Wafer Size
· M10, M12/G12, 整片/半片。。 。。。。。 。
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